ABSTRAK
Hasil pengkajian terhadap berbagai komponen optik, diketahui bahwa material strategis yang memiliki kecenderungan meningkat pemakaian dan aplikasinya di berbagai perangkat elektronika dan telekomunikasi di masa datang, yaitu bahan polimer yang menjadi bahan dasar komponen optik berbasis waveguide untuk integrated optical device, karena memiliki keunggulan; murah, fabrikasinya mudah, memungkinkan interkoneksi optik dan elektronik dalam satu substrat, high speed (100 GHz) dan low voltage driven. Pada penelitian ini, telah dilakukan pelapisan polimer diatas substrat silikon wafer single polish menggunakan metoda wet etching dengan kecepatan 5000 rpm, dari hasil pengukuran dengan elipsometer diperoleh indeks refraksi rata-rata dari 49 titik pengukuran sebesar 1.73. Pengukuran ketebalan dengan jarum ukur menunjukkan bahwa semakin tinggi kecepatan putar, maka ketebalan lapisan polymer yang dihasilkan akan semakin tipis dan permukaannya semakin rata. Pola-pola waveguide untuk masing-masing struktur, yang dihasilkan setelah proses wet etching, dapat diamati dengan menggunakan mikroskop optik. Dengan waktu exposure selama 60 detik, hasil pengamatan menunjukkan bahwa waveguide dengan lebar 200 mm terpola cukup baik, dibandingkan waveguide dengan lebar 50 mm. Oleh karena itu, untuk memperoleh hasil yang diharapkan, perlu dilakukan optimasi dalam proses exposure, wet etching, dan resist strip.
Kata Kunci : material, polimer , polyimide, optical waveguide
Hasil pengkajian terhadap berbagai komponen optik, diketahui bahwa material strategis yang memiliki kecenderungan meningkat pemakaian dan aplikasinya di berbagai perangkat elektronika dan telekomunikasi di masa datang, yaitu bahan polimer yang menjadi bahan dasar komponen optik berbasis waveguide untuk integrated optical device, karena memiliki keunggulan; murah, fabrikasinya mudah, memungkinkan interkoneksi optik dan elektronik dalam satu substrat, high speed (100 GHz) dan low voltage driven. Pada penelitian ini, telah dilakukan pelapisan polimer diatas substrat silikon wafer single polish menggunakan metoda wet etching dengan kecepatan 5000 rpm, dari hasil pengukuran dengan elipsometer diperoleh indeks refraksi rata-rata dari 49 titik pengukuran sebesar 1.73. Pengukuran ketebalan dengan jarum ukur menunjukkan bahwa semakin tinggi kecepatan putar, maka ketebalan lapisan polymer yang dihasilkan akan semakin tipis dan permukaannya semakin rata. Pola-pola waveguide untuk masing-masing struktur, yang dihasilkan setelah proses wet etching, dapat diamati dengan menggunakan mikroskop optik. Dengan waktu exposure selama 60 detik, hasil pengamatan menunjukkan bahwa waveguide dengan lebar 200 mm terpola cukup baik, dibandingkan waveguide dengan lebar 50 mm. Oleh karena itu, untuk memperoleh hasil yang diharapkan, perlu dilakukan optimasi dalam proses exposure, wet etching, dan resist strip.
Kata Kunci : material, polimer , polyimide, optical waveguide
